在新材料從實驗室邁向產業化的征途中，薄膜制備工藝的可靠性是決定成敗的關鍵環節。BEVS 1811系列自動涂膜機通過精準控制涂布速度與厚度，系統性攻克了產業化道路上的四大核心難題，成為光電、新能源材料研發中的關鍵設備。

　　難題1：如何確保重復性、一致性？

　　難點：手動刮涂時，結果嚴重依賴操作人員的手感、速度與角度，不同人員、甚至同一人員不同時間的結果都波動巨大，導致實驗數據不可靠，工藝無法傳遞。

　　解決方案：

△7英寸超大觸摸屏

　　l  自動化程序設定運行參數，包括涂膜速度、行程長度等。

△1811 GV 玻璃平臺

△1811 GV 真空平臺

　　l  玻璃/鋁合金測試平臺，高平整度基底。

△推桿系統

　　l  采用高精度的控制系統，消除了人力操作的抖動與速度不均。

　　核心價值：

　　實現了研發過程的數據可追溯、結果可復現。

　　難題二：如何實現精密成膜？

　　難點：

　　許多先進器件，例如半導體芯片、光學涂層、柔性電子等，對成膜的要求是多維度、極致化的，膜厚波動有的需控制在2μm范圍內。

　　解決方案：

　　l  采用分體式設計，有效隔離運行系統對制備器產生的震動

　　l  運動精度高，剛性結構確保直線度與平行度

　　l  濕膜厚度主要由制備器控制，獨立的制備器精度高，結構穩定、精度保持久

　　核心價值：

　　滿足不同尖端應用場景的苛刻要求。

　　難題三：如何最大化材料利用率？

　　難點：

　　在新材料研發過程中，許多前沿材料（如鈣鈦礦添加劑、納米材料墨水、高端半導體聚合物、高端襯底與功能層材料等）價格堪比黃金。傳統刮涂工藝50%以上的材料被浪費，使得研發與中試成本高不可攀。

　　解決方案：

　　BEVS 1811自動涂膜機可自由定義涂膜行程的起始點（A點）和終止點（B點），漿料被精確地施加在目標區域，避免了在無效基材區域上的鋪展與浪費。

　　核心價值：

　　極大地降低了前沿材料的試錯成本和研發門檻，提高了研發效率。

　　難題四：如何滿足多樣化的制膜需求？

　　難點：

　　新材料研發中，經常要面對材料特性的高度多樣性，覆蓋從水性到油性、從稀溶液到高粘漿料的廣泛范圍，又比如有些特殊材料在常溫下是呈固態的，需要一定溫度才能保持熔融狀態的材料，在進行涂布過程中需要提供系統性解決方案。

　　解決方案：

　　l  配備不同類型制備器，線棒適用于低粘度；單面/四面制備器適用于中高黏度漿料；可調式制備器通過精密千分尺調節，專門用于中高黏度漿料，間隙調節范圍0~3500μm。

　　l  提供寬廣的涂膜速度范圍，最高350mm/s，最低1mm/s

△1811/5 真空加熱平臺

　　l  1811/3和1811/5 型號具備加熱功能，溫度范圍覆蓋室溫~150℃/ 200°C

　　核心價值：

　　通過寬范圍、可編程的運動與過程控制，為每種材料尋找最佳工藝窗口。

　　在材料研發的道路上，每一次實驗的成功，都離不開穩定可靠的設備支持。BEVS 1811系列自動涂膜機，正是這樣一位可靠的伙伴。選擇盛華，將更多新材料從構想變為現實。